99.99% 이상 고순도 알루미나(HPA). LED·배터리·반도체 산업용 소재를 공급합니다.
고순도 알루미나 제품 목록 (6종)
HPA 4N / High Purity Alumina 4N (α-Al₂O₃ 99.99%) - 순도 99.99%(4N) 고순도 알루미나(HPA)는 모스경도 9·융점 약 2,050°C의 α-Al₂O₃ 결정상 분말로, Na·Si·Fe·Ca 등 주요 금속 불순물이 각각 10 ppm 이하로 관리되어 리튬이온 배터리 …
HPA 5N / High Purity Alumina 5N (α-Al₂O₃ 99.999%) - 순도 99.999%(5N) 초고순도 알루미나는 차세대 마이크로 LED 기판, 단결정 사파이어 성장(Czochralski·Kyropoulos·EFG), OLED 박막 봉지층(TFE) 보호막, 고출력 Nd:YAG 레이저…
고순도 알루미늄 원료 / High Purity Aluminum (Al 99.998%) - HPA 합성용 99.998% 고순도 알루미늄 원료는 가수분해법(HPA) 공정의 출발 물질로 사용되는 펠릿·잉곳·와이어 형태의 고순도 금속 알루미늄입니다. Fe·Si·Cu·Zn 등 주요 금속 불순물이 ppm 단위로 엄…
4N 나노 알루미나 / 4N Nano Alumina (α/γ-Al₂O₃ 99.99%) - 순도 99.99%(4N)급 나노 알루미나 분말로, α상과 γ상 결정구조 옵션이 모두 제공되며 평균 입도(D50)를 100~500 nm 범위에서 제어할 수 있습니다. Na·K·Si·Fe·Ca 등 주요 금속 불순물이 각…
5N 고순도 나노 알루미나 / 5N High Purity Nano Alumina (α-Al₂O₃ 99.999%) - 순도 99.999%(5N) 초고순도 나노 α-알루미나 분말로, 차세대 마이크로 LED 기판, 단결정 사파이어 성장, OLED 박막 봉지(TFE) 보호층, 고출력 Nd:YAG 레이저 호스트, 첨단 반도체 ALD/CVD…
나노 알루미나 분산액 / Nano Alumina Dispersion (Al₂O₃ Dispersion) - 수계 및 용제계 나노 알루미나 분산액으로 고형분 20~40% 옵션으로 공급되며, 평균 입도 50~200 nm 범위에서 장기 안정 분산되도록 표면 처리·분산제 최적화 설계가 적용되어 있습니다. 별도 분산 공정 없이 즉…